（圖源網(wǎng)��(luò)，侵刪）

真空蒸發(fā)鍍膜技��(shù)包括電阻蒸發(fā)��、電子束蒸發(fā)鍍、激光束蒸發(fā)��、高頻感��(yīng)加熱蒸發(fā)鍍等。下表列出了幾中蒸發(fā)鍍膜技��(shù)的特��(diǎn)��

技��(shù)名稱

電阻蒸發(fā)��

電子束蒸��(fā)��

激光束蒸發(fā)��

高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)��

熱能來源

高熔��(diǎn)金屬

高能電子��

激光能��

高頻感應(yīng)加熱

功率密度��

特點(diǎn)

簡單成本��

金屬化合��

純度��，不分餾

蒸發(fā)速率��

1.電阻蒸發(fā)鍍：電阻蒸發(fā)源用于蒸��(fā)低熔��(diǎn)材料，如��、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等。電阻蒸��(fā)源一般采用鎢、鉬、鉭制作��

2.電子束蒸��(fā)鍍：利用電子束加熱使膜材汽化蒸發(fā)��，凝��(jié)在基片表面成膜是真空蒸鍍技��(shù)中一種重要的加熱方法。這種裝置的種類很��。隨著薄膜技��(shù)的廣泛應(yīng)用，不但��(duì)膜的種類要求繁多，而且��(duì)膜的��(zhì)量要求更加嚴(yán)��。電阻蒸��(fā)鍍已不能滿足蒸鍍某些金屬和非金屬的需��。電子束熱源能獲得遠(yuǎn)比電阻熱源更大的能量密度，數(shù)值可��(dá)��104-109w/cm2，因此可以將膜材加熱��3000-6000c。這就為蒸��(fā)難熔金屬和非金屬材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AI2O3等提供了較好的熱源。而且由于被蒸鍍的材料是放在水冷坩堝內(nèi)，因而可避免容器材料的蒸��(fā)及容器材料與膜材之間的反��(yīng)，這對(duì)提高膜的純度是極為重要的。另��，熱量可直接加到膜材表面��，因此熱效率��，熱傳導(dǎo)和熱輻射損失少��

3.高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍：利用感應(yīng)加熱原理把金屬加熱到蒸發(fā)溫度。將裝有膜層材料的坩堝放在螺旋線圈的中央(非接��)，在線圈中通以高頻電流，可以使金屬膜層材料��(chǎn)生電流將自身加熱升溫，直至蒸��(fā)��

感應(yīng)加熱蒸發(fā)源的特點(diǎn)��1)蒸發(fā)速率�� 2)蒸發(fā)源溫度均勻穩(wěn)��，不易產(chǎn)生鋁滴飛濺現(xiàn)�� 3)蒸發(fā)源一次裝��，無須送絲��(jī)��(gòu)，溫度控制比較容��，操作簡�� 4)��(duì)膜材純度要求略寬����

4.電弧加熱蒸發(fā)鍍：與電子束加熱方式相類似的一種加熱方式是電弧放電加熱法。它也具有可以避免電阻加熱材料或坩堝材料的污��，加熱溫度較高的特點(diǎn)，特別適�� 于熔��(diǎn)��，同��(shí)具有一定導(dǎo)電性的難熔金屬、石墨等的蒸��(fā)。同��(shí)，這一方法所用的��(shè)備比電子束加熱裝置簡單，因而是一種較為廉��(jià)的蒸��(fā)裝置��

5.激光束蒸發(fā)鍍：采用高功率密度脈沖激光對(duì)材料��(jìn)行蒸��(fā)，用以形成薄膜的方法，一般稱為激光蒸鍍��