美國開發(fā)出低溫鉆石薄�
美國先�(jìn)鉆石技�(shù)公司專家開發(fā)出一種新方法,可以在較低溫度下給電子�(shè)備涂上一層鉆石薄�,讓更多電子�(shè)備未來都穿上超強(qiáng)品質(zhì)的鉆石“外衣�。相�(guān)論文�(fā)表在美國物理�(xué)�(AIP)期刊《應(yīng)用物理快�(bào)》上�
鉆石由于其硬�、光�(xué)透明度、光潔度、耐化�(xué)藥品、輻射和電場等方面卓越性質(zhì),在工業(yè)和高科技裝置上具有特殊價(jià)�。研究人員將鉆石用在電子�(shè)備上�(shí),把半導(dǎo)體硼引入鉆石制造過程,通過“摻雜”使其能�(dǎo)�。但過去,利用摻雜鉆石涂層或薄膜賦予電子�(shè)備鉆石般的品�(zhì),還面臨很大挑戰(zhàn),因?yàn)閾诫s鉆石涂層在應(yīng)用時(shí)要求很高溫度,而生物傳感器、半�(dǎo)�、光子和光學(xué)�(shè)備等靈敏度較高的電子�(shè)備遇到高溫會被破��
在論文中,美國伊利諾斯州先�(jìn)鉆石技�(shù)公司�(bào)道,他們造出了一種硼摻雜鉆石薄膜,能在低溫下(460℃到600�)給許多電子設(shè)備穿上鉆石“外衣”�
低溫沉淀硼摻雜鉆石薄膜的概念已不新鮮。但在實(shí)際應(yīng)用中,尚未發(fā)�(xiàn)品質(zhì)�(yōu)良又能迅速制造用于商�(yè)化用途的鉆石薄膜。研究小組通過降低溫度,并�(diào)整通常工藝中甲烷和氫氣的比�,改變了原來硼摻雜所需正常溫度,也能生�(chǎn)出高�(zhì)量薄膜,在導(dǎo)電性或光潔度方面跟高溫生產(chǎn)的鉆石薄膜沒多大區(qū)��
研究人員�,他們還需要更多數(shù)�(jù)�(jìn)一步研究,以更好地掌握低溫�(huán)�。利用�(jìn)一步優(yōu)化的方法,有望在低于400℃的溫度下沉淀硼摻雜鉆石薄�。先�(jìn)鉆石技�(shù)公司的曾宏君(音譯)說:“沉淀溫度越低,就能在越多的電子設(shè)備上�(yīng)�。在厚度、光潔度、導(dǎo)電性等方面也將�(jìn)一步拓寬鉆石涂層的生產(chǎn)種類?�?/p>